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9月 27

LA-ICP-MS(激光刻蚀-感应耦合等离子体质谱)技术简介

禹重科技-行业应用

在LA-ICP-MS(激光刻蚀-感应耦合等离子体质谱)中,样品通过用脉冲激光束烧蚀后直接进行分析。产生的气雾质被输送到电感耦合氩电浆(ICP)的核心,产生约8000°C的温度。ICP–MS中的电浆被用于产生离子,然后引入到质量分析器。根据荷质比,将离子分离收集,就可以测量并确定未知样品的成分。ICP–MS对于元素具有极高的灵敏度。

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成分分析方案|表面分析方案|样品前处理系统|表面分析方案|硬度测试|力学测试|标准样

对于雷射刻蚀法,任何类型的固体样品都可以被烧蚀进行分析;没有样品的尺寸要求且无样品制备程序。使用雷射剥蚀的化学分析所需的样品量(μg)比溶液雾化(mg)还小。这种分析技术仅需非常少量的样品量。此外,聚焦的雷射束对固体样品中异质性的空间特性可以辨别分析,通常横向和深度两方面的分辨率皆为μm。

应用范围

导体、半导体和非导体材料的主要、次级和痕量成分分析

塑料、制药有机或者生物材料的污染物

失效、污染物和夹杂物分析

取证分析

环境和矿物样品分析

元素分布分析

分析规格

侦测讯号:离子

侦测元素:70种元素左右

侦测限制条件:ppb

影像/mapping:否

深度分辨率:~1μm

横向分辨率-光点直径: 4 - 100μm

优点

对固体的元素组成,直接在表面和块材取样进行多元素的定量或半定量

溶解时无化学反应

分析物损失或者交叉污染的风险降低

样品几何形状独立

可以分析非常小的样品

测量元素组成的空间分布

限制

主要基质元素和其他的分子种类会干涉某些元素的测定,一些双电荷或者分子离子种类会造成定量上的困难

产业应用

玻璃和陶瓷

鉴识

半导体生产制造

地质

故障分析

文章来源:EAG实验室

编辑:亚析

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本次实验用ICP-OES检测,单独拉一条线混标测试铝、钴、铬、铜、铁、锰、镍、铅、锶、钛、钒、锌。考虑到碱金属一般含量较大,浓度也比信号较强怕影响,故第二条线做 钾、钙、钠、镁。